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硅在铝酸钠溶液分解过程中的行为

时间:2018-12-17 00:12  来源:未知  阅读次数: 复制分享 我要评论

  硅在铝酸钠溶液分化过程中的行为_电子/电路_工程科技_专业材料。采用离子膜电解强化铝酸钠溶液分化,调查硅在分化过程中的行为,并用扫描电镜和电子能谱别离对自觉分化产物的概况描摹及概况元素进行了表征.成果表白:二氧化硅的浓度变化在分化过程平分三个阶段,即前期敏捷削减,中期根基不变,后期又迟缓削减;在分化温度分歧时,二氧化硅的浓度在高温时变化较低

  ?10- 有色金属(冶炼部门)2007年5期 硅在铝酸钠溶液分化过程中的行为 梁成,陈启元,李洁,尹周澜 (由南大学亿学亿工学院,湘南长沙410083) 摘要:采爿j离子膜电解强化锅酸锄溶禳分化,调查硅在分化过程中的行为,并用扫描电镜和电子能谱分 别对自觉分化产物的概况描摹及概况元素进行了表征。成果表白:二氧化硅的浓度变化在分化过程中 分三个阶段,即前期敏捷削减,中期根基不变,后期又迟缓减步;在分化温度分歧时,二氧化硅的浓度在 高温时变化较低温快。种分温度为70。C与60℃时,在分化6 h后.分化率都在50%摆布。种分温度为 70。C时,在前l h分化率就达到40%摆布,较着比60"C时快,申明溶液分化显著地由化学反映节制。二 氧化硅使10/*m以下的棉子数添加,同时二氧化硅在60℃时比拟70℃更能影响粒度分布。纯铝敲铺溶 液鹤发分化产物概况滑腻,亿游彩票导航网含硅铝酸钠溶液自觉分化产物概况有藐小粒子和犯警则絮状物,概况元素分 析表白絮状物为硅铝酸铺晶体之间的簇台。 环节词:离子膜电解;铝酸钠溶液;硅铝馥钠;分化 中图分类号:TF82j 文献标识鹤:A 文章编号:1007—7545(2007)05—00i0—04 Behavior of Si02 in the Precipitation of Caustic Aluminate Solutions LIANG Cheng,CHEN Qi—yuan,LI Jie,YIN Zhou-lan Co!!ege of Chemist ry and ehem[ca!Englneetlng,CentrM South U.n!vers[ty,Cbangsha 4td089) Abstract:The behavior of Si02 in the precipitation of Gibbsite in caustic aluminate solution has been invcs- tigated by ion membrane electrolysis.‘Yhe microstructure of unseeded precipitation of aluminum hydroxide and its surface elements were characterized by using scanning dectronic 0n microscope(SEM)and Electron con— Spectrometer.The results show that silicon dioxide influenced precipitated process obviously.’Fhe centration change of Si02 upon 0.60 g/L in the precipitation process was thought to be undertaken there— step:decrease quickly are rate at first,a lag period step secondly and pure a slow step thirdly.The precipitation ratio up tO 50“after six hours in at solution or sodium aluminatc solution with Si02.The precipitation at was faster 70 oc compa

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